集成电路布图设计

集成电路布图设计:

目前,世界各国主要采取三种取得方式:自然取得,登记取得,使用与登记取得,7dd98d1001e939015459bd1379ec54e736d19647.jpg

大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。

申请的程序:
(1)申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;
(2)初审;
(3)登记并公告;
(4)对驳回申请的复审;
(5)登记的撤销。
(四)集成电路布图设计申请阶段需提交的材料:
(1)集成电路布图设计登记申请表。
(2)集成电路布图设计的复制件或者图样。

(3)集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。

(4)国家知识产权局规定的其他材料。

保护期限
布图设计权的保护期限为10年,自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受到保护。



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